C5 · 出版卷 15
Image Geometry and Preprocessing
Orthorectification、atmospheric correction、co-registration
学习目标
本章把预处理视为可审计的物理模型,而不是按钮序列。学习者应能区分辐射校准、大气层顶与地表物理量,解释正射校正和地形位移,评估大气与地形校正,测量共配准误差,按数据类型选择重采样,并完整保留掩膜与处理血缘。
预处理只能在其输入和假设允许的程度上使观测可比。每项校正都可能留下残差或引入相关性。“已校正”标签不是质量证书。
传感器几何与正射校正
原始影像几何由探测器排列、扫描计时、平台位置与姿态、观测方向、地球形状和地形共同控制。透视影像中,高低起伏会使地物偏离地图位置。正射校正利用传感器模型、控制点和高程数据,把样本映射到声明的坐标系统。
几何精度包含绝对与相对部分。绝对精度比较影像位置和地面参考,相对精度或共配准精度比较影像彼此的位置。适合区域制图的产品仍可能不适合像元级变化检测。地形模型误差、控制点分布、被云遮蔽的同名点和传感器模型局限都可形成空间变化残差。
检查点必须独立于校正控制点。应报告误差向量和稳健统计,而不是只给一个全局均方根;山区、场景边缘与控制稀疏区应分别检查。
辐射与大气处理
辐射校准按元数据把仪器代码转换为辐亮度或其他校准量。太阳反射区的大气层顶反射率可减弱部分照明和日地距离效应,但仍包含大气。地表反射率处理利用气溶胶、水汽、气压与几何等辅助信息,通过散射和吸收模型估计地表相关量。
当模型输入不足时,暗表面、亮表面、高海拔表面、非均质表面或邻云表面的大气校正可能病态。薄云和霾可通过一般云掩膜;邻近效应会把相邻亮目标的辐亮度传入像元。数值合法的产品仍可能不适合微弱吸收或变化判断。
应与地表产品同时保存辐亮度或大气层顶输入,记录算法、版本、辅助数据和逐像元质量。跨场景比较稳定表面,并检查残差是否随气溶胶、观测角和高程变化。
地形照明与双向效应
坡度与坡向会改变入射照明和观测几何。同一材料的向阳与背阳出露可具有不同亮度、阴影和散射。简单余弦校正可能过度提升低照度坡面,并假设未必成立的表面响应;经验或半经验校正也依赖稳定参考假设。
双向反射意味着表面响应随照明、观测方向、颗粒结构和粗糙度变化。混合观测几何的时间序列可出现与材料无关的变化。归一化可改善可比性,却增加模型依赖;几何字段与校正系数必须随输出保存。
不得自动使用校正后的深阴影像元。低入射能量造成低信号和不稳定比值,即使公式提升了亮度也不例外。应保留地形阴影或低照度掩膜,并说明损失的支持域。
共配准与重采样
共配准将观测对齐到共同网格。亚像元偏移应由稳定且分布均匀的特征估计,避开云、移动植被、水体和已变化表面。当存在旋转、剪切、地形视差或局部扭曲时,单一平移并不足够。应使用保留的同名点验证,并绘制残差向量。
重采样为输出网格赋值。最近邻保留原始代码和类别掩膜,却产生块状结构;双线性和三次方法平滑连续场并创造新数值;在网格适当嵌套时,面积加权聚合可保持平均量。降采样需要抗混叠策略,升采样不会增加分辨率。
同一空间变换应一致应用,但科学波段、不确定度与类别掩膜要使用各自合适的方法。记录网格原点、像元对齐、坐标参考、变换和核函数。半像元约定错误就可能伪装成边界位移。
质量保证与不确定度传播
建立预处理台账,包含输入校验和、产品标识、校准系数、掩膜、大气与高程辅助源、几何变换、重采样方法、输出比例、独立于软件的公式与诊断指标。保存校正前后直方图及稳定目标比较。
不确定度包括校准误差、大气残差、地形校正、地理定位与重采样协方差。对比值 q=x/y,一阶方差同时包含两个波段的不确定度及其协方差。把经重采样的相邻像元视为独立会夸大有效样本量。
预先定义失效处置:控制不足时拒绝场景,地表校正不稳定时保留大气层顶量,饱和或云污染像元以掩膜而不是填补处理,共配准误差高时提高变化判定的不确定度而不是掩盖问题。
合成算例
两个合成 20 m 场景含有清晰地质边界和一条窄路。场景 B 向东偏 0.35 像元、向北偏 0.20 像元。不配准直接作差,会沿两个特征形成成对正负条带。用稳定控制估计平移后,道路残差减小,但陡脊仍有与地形相关的偏移,因为正射校正使用了错误高程面。
平均偏移很小,局部残差却大于目标变化宽度。正确决策是将山脊排除出像元级变化分析,用合适高程模型修复几何,并保留排除掩膜。提高变化阈值只会隐藏症状,不能修复位置错误。
解释与决策。 预处理生成的是“可分析”主张,而非地面真值。每一步都应声明物理量:校准辐亮度、大气层顶反射率、估计地表反射率、地形归一反射率或重采样网格。除非变换已论证,不应在同一比值或时间序列中混用不同处理级别。残差诊断决定最小可辩护制图或变化单元;不可靠区域应报告未知,而不是强制分类。
练习与审计清单
给定两个合成场景及元数据,重建比例与偏移,建立云和饱和掩膜,用稳定控制估计共配准,并分别为反射率和类别掩膜选择重采样方法。生成校正前后差值图与残差向量图,记录校正仍不足的区域。
审计问题:输入处理级别是否兼容?高程模型垂直基准是否已知?是否使用独立检查点?大气与地形参数是否记录?掩膜是否按类别重采样?亚像元配准是否足以支持所声称变化?每个输出像元能否追溯到来源?
来源
- 集合级几何与辐射改进,说明长期遥感档案的校准、控制与产品格式变化。
- 一级产品几何层级与配准准则,解释地形校正、几何质量与时间序列适用性。
- 地表反射率处理与限制,说明大气校正产品、缩放与辅助质量信息。
- 跨传感器正射产品共配准评估,提供相对几何精度的一手评估。